Die Alfried Krupp von Bohlen und Halbach-Stiftung hat in Zusammenarbeit mit der Fotografischen Sammlung des Museum Folkwang zwei Stipendien für zeitgenössische deutsche Fotografie vergeben. Eine international besetzte Jury entschied sich aus über 300 Bewerbungen für die Projektvorschläge „Oram Littoris Primi Lego“ von Ilinca Fechete und „Gesichtsmaske“ von Andrzej Steinbach. Die Stipendiaten erhalten je 13.000 Euro, um die eingereichten Projekte umzusetzen.
Das seit 1982 existierende Stipendium gehört zu den renommiertesten Auszeichnungen für zeitgenössische Fotografie in Deutschland. Ilinca Fechete richtet den Blick auf verschiedene Materialitäten von Papieren, die heute nicht mehr produziert werden. Sie will ein experimentelles, fotografisches „Buchwerk“ realisieren. Andrzej Steinbach geht der Frage nach, welcher Ausdruck und welche Zuschreibungen sich in unterschiedlichen Darstellungsformen von Figuren und Gesten finden.
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